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低溫等離子處理設(shè)備

簡(jiǎn)要描述:低溫等離子處理設(shè)備,Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16專用軟件支持自動(dòng)/手動(dòng)操作模式可切換(自動(dòng)模式下可儲(chǔ)存多套工藝程序),支持操作權(quán)限分級(jí)設(shè)定

  • 所在城市:國(guó)外
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新日期:2024-04-09
  • 訪  問(wèn)  量:2175
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
樣品腔尺寸250x250x250cm控制方式全自動(dòng)控制(自動(dòng)/手動(dòng)切換)
功率1200W氣路1-10
樣品腔材質(zhì)鋁合金樣品腔容積16LL
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域化工,石油,電子

低溫等離子處理設(shè)備特點(diǎn):

· Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16便捷的觸摸屏操作界面

· 專用軟件支持自動(dòng)/手動(dòng)操作模式可切換(自動(dòng)模式下可儲(chǔ)存多套工藝程序),支持操作權(quán)限分級(jí)設(shè)定

· 數(shù)字及圖形化工藝參數(shù)控制及實(shí)時(shí)顯示

· 支持6/8/12 wafer的去膠清洗

· 安全及異常報(bào)警功能

· Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16多語(yǔ)言:法語(yǔ)、英語(yǔ),德語(yǔ),中文

低溫等離子處理設(shè)備用途:

· 去除光刻膠

· 干刻或濕刻處理前或后

· SU-8或其他環(huán)氧基樹(shù)脂

· MEMS制造中去除犧牲層

·去除光刻膠,SU-8,環(huán)氧樹(shù)脂

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