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誰知道等離子去膠機的原理?

更新時間:2021-07-22瀏覽:3317次

 等離子去膠法,去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應系統(tǒng)中,通入少量氧氣,加1500 V高壓,由高頻信號發(fā)生器產生高頻信號,使石英管內形成強的電磁場,使氧氣電離,形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱。活化氧(活潑的原子態(tài)氧)可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體,被機械泵抽走,這樣就把硅片上的聚酰亞胺膜去除了。等離子去膠的優(yōu)點是去膠操作簡單、去膠效率高、表面干凈光潔、無劃痕、成本低、環(huán)保.

電介質等離子體刻蝕設備一般使用電容耦合等離子體平行板反應器。在平行電極反應器中,反應離子刻蝕腔體采用了陰極面積小,陽極面積大的不對稱設計,被刻蝕物是被置于面積較小的電極上。在射頻電源所產生的熱運動作用下帶負電的自由電子因質量小、運動速度快,很快到達陰極;而正離子則由于質量大,速度慢不能在相同的時間內到達陰極, 從而使陰極附近形成了帶負電的鞘層。正離子在鞘層的加速下,垂直轟擊硅片表面,加快表面的化學反應及反應生成物的脫離,導致很高的刻蝕速率。離子轟擊也使各向異性刻蝕得以實現(xiàn)等離子體去膠的原理和等離子體刻蝕的原理是一致的。不同的是反應氣體的種類和等離子體的激發(fā)方式。
 

 

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