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手持式等離子清洗機廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基......
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等離子體是部分離化的中性氣體,在等離子體中自由電子與中性分子,原子進行碰撞,通過碰撞電離,進一步得到更多的電子和離子?;陔娮拥哪芰?,可以獲得更豐富的離子,激發(fā)態(tài)高能中性粒子等,同時由于電子吸附在中性氣體表面還可獲得負(fù)離子??涛g方法在塑料印刷和粘合時作為預(yù)處理手段是十分重要的,等離子蝕刻機用于刻蝕塑料表面,通過氧氣可以......
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等離子去膠法,去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中,通入少量氧氣,加1500V高壓,由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號,使石英管內(nèi)形成強的電磁場,使氧氣電離,形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱?;罨酰ɑ顫姷脑討B(tài)氧)可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體,被機械泵抽走,這樣......
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等離子去膠機是適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備,主要用于光刻膠的剝離或灰化,也可用于有機及無機殘留物的去除,去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用,清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線框架,提高黏附性等,它的設(shè)計緊湊,占地面積小,設(shè)備運行穩(wěn)定可靠、易于維護、產(chǎn)能高。它的工藝簡單、效率高,處理后無酸氣廢水等殘留......
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等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材......